激光熔覆里的稀釋率和搭接率指的是什么?稀釋率的概念 稀釋率是指在激光熔覆中,由于熔化基材的混入而引起的熔覆合金成分的變化程度,用基材合金占總?cè)鄹矊拥陌俜致时硎荆ǚ?hào)η)。 H:熔覆層高度,h:基材熔深,W:熔覆層寬度 η=A2/(A1+A2)=h/(H+h) 不同修復(fù)工藝稀釋率對(duì)比 熱噴涂/等離子噴涂:η=0, 僅為機(jī)械結(jié)合,容易脫落 堆焊:η=30-60%,基體過(guò)度稀釋涂層, 熱影響區(qū)過(guò)大,容易產(chǎn)生焊接缺陷 激光熔覆:η<10%,稀釋率低,熱影響區(qū)小, 化學(xué)冶金結(jié)合,結(jié)構(gòu)致密,修復(fù)效果好 搭接率的概念 單道熔覆時(shí),熔覆層不是平面,而是凸面。(表面張力梯度引起的強(qiáng)制對(duì)流和潤(rùn)濕性的共同作用) 熔覆層截面形貌 如果不進(jìn)行搭接,不同道次連接處熔覆層有效厚度為0,表面粗糙度差。 多道熔覆時(shí),相鄰熔覆道間的搭接寬度D0與單道熔覆層寬度W之比。 R0=D0/W x 100% 搭接率對(duì)熔覆層形貌的影響 R0偏小:相鄰熔覆道之間會(huì)出現(xiàn)明顯的凹陷區(qū), 但兩個(gè)熔覆道高度是一致的。 R0適中(40-50%):會(huì)有較好的熔覆效果, 且兩道熔覆道高度相同。 R0偏大:出現(xiàn)搭接區(qū)的凸起,且兩熔覆道高度不同。 如果繼續(xù)疊層熔覆,會(huì)將缺陷進(jìn)一步放大,導(dǎo)致無(wú)法熔覆成型。 搭接率對(duì)熔覆層組織和性能的影響 搭接處金相組織 搭接處被激光重新加熱,樹枝晶更加明顯,未搭接部分受到熱傳導(dǎo)作用,產(chǎn)生自回火,硬度下降。 參考文獻(xiàn): 《激光熔覆稀釋率的概念》《激光熔覆搭接率的概念》,林繼興,浙江工貿(mào)職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |