佛山市鋮豐材料科技有限公司 專注研發(fā)、生產(chǎn)、加工、銷售各類高品質(zhì)金屬及陶瓷粉末
全國(guó)統(tǒng)一熱線
0757-23813180
13794055575

PALD 技術(shù) - 粉末保形包覆

摘錄自公眾號(hào)《復(fù)納科技》

粉末保形包覆-PALD 技術(shù)的基本實(shí)現(xiàn)方法



關(guān)于 ALD 以及 PALD 技術(shù)

與傳統(tǒng)的表面改性不同,PALD 是真正可以實(shí)現(xiàn)原子級(jí)/分子層級(jí)控制精度的粉末涂層技術(shù),并保持良好的共形性。原子層沉積技術(shù)是一種基于自限制性的化學(xué)半反應(yīng)將被沉積物質(zhì)以單原子膜的形式一層一層的鍍?cè)谖矬w表面的薄膜技術(shù)。與常規(guī)的化學(xué)氣相沉積不同,原子層沉積將完整的化學(xué)反應(yīng)分解成多個(gè)半反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)單原子層級(jí)別的薄膜控制精度。由于基底表面存在類似羥基這樣的活性位點(diǎn),因此前驅(qū)體可以形成單層的飽和化學(xué)吸附,從而實(shí)現(xiàn)自限制性反應(yīng)。而在經(jīng)過(guò)單個(gè)周期反應(yīng)后,新的位點(diǎn)暴露出來(lái),可以進(jìn)行下一個(gè)周期的反應(yīng)。而 ALD 反應(yīng)的特點(diǎn)決定了:


1、反應(yīng)具有自限制性,因此每個(gè)周期理論上最多只有一層目標(biāo)涂層形成

2、ALD 反應(yīng)具有較好的繞鍍性,可以實(shí)現(xiàn)其他方法無(wú)法達(dá)到的保形,均勻的涂層

3、厚度可控,通過(guò)控制反應(yīng)的周期,從而實(shí)現(xiàn)原子層級(jí)的厚度控制


圖片

                          ALD 的原理:氧化鋁涂層的生長(zhǎng)

圖片


PALD 被用來(lái)做什么

早期,PALD 應(yīng)用是保護(hù) LED 熒光發(fā)光材料免遭水汽侵蝕從而失活,使用 ALD 涂層材料所可有效節(jié)約加工能源,只需要其他方法的 75% 到 80%,有顯著的成本效益。另一個(gè)應(yīng)用主要是針對(duì)鋰離子電池的包覆改性,從而提升電池的循環(huán)使用壽命以及安全性。


PALD 的實(shí)現(xiàn)方式

最早的粉末 ALD 研究都是小批量的,部分研究者會(huì)采用半導(dǎo)體晶圓 ALD 設(shè)備處理少量的粉末。但受限于粉末的分散技術(shù),只能停留在實(shí)驗(yàn)室階段。在粉末表面進(jìn)行的 ALD 反應(yīng)比平面樣品更為復(fù)雜,由于粉末樣品巨大的表面積,使相同體積下的粉末材料需要更多的前驅(qū)體進(jìn)行反應(yīng)。如果把電子元件看作一張課桌,那么同樣體積的粉末的表面積幾乎可以等同于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)足球場(chǎng)。

圖片

同時(shí)粉末易于團(tuán)聚的特點(diǎn)也導(dǎo)致平面 ALD 方式前驅(qū)體擴(kuò)散效率低下。因此對(duì)粉末進(jìn)行 ALD 需要實(shí)現(xiàn):


1、反應(yīng)腔的設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)粉末攪拌功能

2、前驅(qū)體輸送需要更高效的擴(kuò)散以及單次大體積的加藥

圖片


流化床系統(tǒng)

Steve Geogre 教授從 2004 年起采用流化床以及旋轉(zhuǎn)床等方法結(jié)合的方式進(jìn)行粉末的包覆處理。

圖片


在流體作用下呈現(xiàn)流(態(tài))化的固體粒子層稱為流化床。流化床方案是較為理想的一種分散方式,流化是將顆粒懸浮在移動(dòng)的流體中,使其表現(xiàn)為類液體狀態(tài)的一種方法。隨流體速度的不同,床層可具有不同的流化特性。

圖片







旋轉(zhuǎn)床系統(tǒng)

當(dāng) ALD 表面反應(yīng)具有較低的反應(yīng)粘著系數(shù)時(shí),反應(yīng)物在流化床反應(yīng)器中的停留時(shí)間可能太短而無(wú)法達(dá)到較高的前驅(qū)體利用效率。通過(guò)磁耦合旋轉(zhuǎn)饋通裝置旋轉(zhuǎn)多孔圓筒圓筒,從而獲得小于標(biāo)準(zhǔn)重力的離心力,粒子被連續(xù)的粒子“雪崩”效應(yīng)所攪動(dòng)。此外,惰性 N2 氣體脈沖有助于將顆粒從多孔壁上移出,并提供了一種有效的方法來(lái)清除顆粒床上的反應(yīng)物和產(chǎn)物。

圖片

顆粒在離心力,氣流以及重力的作用下實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)流化

對(duì)于需要更長(zhǎng)前驅(qū)體駐留時(shí)間的反應(yīng)或前驅(qū)體擴(kuò)散效率較高的反應(yīng),旋轉(zhuǎn)式的反應(yīng)腔提供了一種更為簡(jiǎn)便的粉末 ALD 方式以及更高效的前驅(qū)體利用。而在工業(yè)級(jí)粉末 ALD 包覆時(shí),粉末旋轉(zhuǎn)床可以節(jié)約更多的空間,進(jìn)行單批次更大吞吐量的粉末處理

圖片







振動(dòng)床

除了流化床以及旋轉(zhuǎn)床,振動(dòng)也是實(shí)現(xiàn)粉末分散的一種良好方式。而振動(dòng)床最大的優(yōu)勢(shì)在于其連續(xù)化生產(chǎn)以及高通量粉末處理的能力。結(jié)合空間 ALD 技術(shù),連續(xù)振動(dòng)空間顆粒 ALD 反應(yīng)器利用線性振動(dòng)將顆粒輸送到前驅(qū)體氣體的交替區(qū)域。比之下,連續(xù)振動(dòng)的空間顆粒 ALD,顆粒通過(guò)定向振動(dòng)通過(guò)前驅(qū)體氣體的交替區(qū)域流動(dòng),可以在保持低成本的同時(shí)實(shí)現(xiàn)粉末的高通量處理。振動(dòng)導(dǎo)致密集顆粒區(qū)域的攪動(dòng),有助于打破堵塞,防止顆粒團(tuán)聚。在連續(xù)振動(dòng)的空間粒子 ALD 反應(yīng)器中,線性振動(dòng)以中頻、低振幅振蕩的方式輸送粒子通過(guò)交替氣區(qū)。這種振動(dòng)床比流化床更容易實(shí)現(xiàn)較多反應(yīng)周期的 ALD 工藝,且可隨時(shí)調(diào)整反應(yīng)空間的長(zhǎng)度,甚至可以達(dá)到每年千噸級(jí)的粉末處理量。

圖片

               Alan Weimmer 組設(shè)計(jì)的連續(xù)式振動(dòng)床






圖片


從十多年前飽受質(zhì)疑到如今被學(xué)術(shù)界接受,PALD 技術(shù)已處在工業(yè)應(yīng)用的前夜,對(duì)這一切 Alan Weimmer 教授并不吃驚?!按蚱瀑|(zhì)疑很重要,只要我認(rèn)為其具備科學(xué)可行性,我就會(huì)堅(jiān)定不移進(jìn)行下去”。正是在這樣的信念下,Alan 與 Steve 教授二人開(kāi)創(chuàng)了一種全新的沉積技術(shù)子類,而由他們的學(xué)生創(chuàng)辦的公司 Forge Nano,正在把這一技術(shù)推廣至工業(yè)界。


“在大規(guī)模的 PALD 技術(shù)加持下,納米級(jí)包覆的成本已經(jīng)可以被控制在企業(yè)可以接受的水平,我們也很希望在不久的將來(lái)這一技術(shù)能被工業(yè)界廣泛應(yīng)用?!?Forge Nano 首席執(zhí)行官 Paul 如是說(shuō)。

關(guān)于 Forge Nano


圖片

Forge Nano 是全球領(lǐng)先的原子層沉積包覆方案供應(yīng)商,可提供從研發(fā)到工業(yè)生產(chǎn)的“端到端”服務(wù),團(tuán)隊(duì)基于其獨(dú)家的原子層沉積技術(shù),可實(shí)現(xiàn)大批量的粉末原子層沉積包覆(kg-ton)以及超快平面沉積(12-30nm/min)。
圖片


業(yè)務(wù)推介

粉末表面包覆——金屬基復(fù)合材料定制



針對(duì)當(dāng)下科研單位和生產(chǎn)企業(yè)對(duì)改性材料,復(fù)合材料的需求加大,鋮豐材料聯(lián)合廣東高校粉末冶金課題組研發(fā)出新型粉末表面包覆工藝,使用物理沉積法在金屬及陶瓷微米粉表面包覆增強(qiáng)相,提高材料的使用性能。適用基體粉末:鐵基合金,鈦合金,鋁合金,鎳基合金,難熔金屬鎢鉬鉭鈮等。


圖片

圖片

粉末表面包覆效果展示


圖片

客戶案例(石墨烯包覆球形金屬粉末)



佛山市鋮豐材料科技有限公司
QQ:1877128214

聯(lián)系地址:廣東省佛山市南海區(qū)桂城街道深海路17號(hào)瀚天科技城B1區(qū)1號(hào)樓E座6樓
聯(lián)系郵箱:yejunxi CF@163.com

聯(lián)系電話:0757-23813180             
手機(jī)號(hào):13794055575